缺陷类型和浓度对{116}面TiO2纳米晶光催化性能的影响

来源 :第十三届全国正电子谱学会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:c543217896chenjia
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  作为最重要的半导体材料,TiO2因其高化学稳定性、较低的毒性和光敏性质,近年来受到广泛关注和研究.TiO2纳米材料可以应用在很多方面,包括光催化、太阳能电池、防紫外线、传感和电致变色等等.并且,TiO2纳米材料电子带隙通常大于3.0eV,其在紫外区域具有高的吸收,因此其在光催化领域的应用非常突出.然而,作为宽带隙半导体材料,TiO2只能从紫外区域获取能量,这只是太阳能量中的一小部分.因此,TiO2纳米材料性能方面,尤其是对可见光区域的光学活性,还有待于进一步提高.从原理上看,缺陷的存在对于光催化效率有着重要的影响.Kong等[1]发现降低体缺陷与表面缺陷的相对浓度比,可以提高光生电子和空穴的分离效率,从而显著提高TiO2纳米晶的光催化效率.其它[2-5]研究也表明,缺陷在吸附和表面反应性上起重要作用.
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