论文部分内容阅读
该文研究了高磷Ni-P合金的无电解镀镍溶液组成及工艺条件，通过X射线能谱仪、X衍射分析、DTA差分析及电化学测试较系统地研究了高磷化学镀镍层的成分、结构和耐蚀性能。实验表明，溶液中配位体的浓度、Ni<2+>浓度及pH也是影响镀层磷含量的主要因素。在一定的工艺条件下，所获得的Ni一P合金镀层磷含量为12～14wt℅，沉积速率为10.5μm／h镀层为非晶态结构．镀层在约280℃下开始晶化，350℃晶化结束，最后转变为主相Ni<,3>P、υ一Ni共熔体和少量Ni<,2>P的混合组织。研究发现，不同配位体体系获得的Ni一P（HP）镀层，耐蚀性也不同Ni一P（HP）镀层在酸和盐介质中有良好的耐蚀性，热处理后高磷镀层耐蚀性降低。