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该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和制作工艺，并将制作的光致抗蚀剂衰减相移掩模用于krF准分子激光投影光刻曝光实验，得出了显著提高光刻分辨力的实验结果。
光致抗蚀剂薄膜在光刻掩膜制作中的应用
【摘 要】
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该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和制作工艺，并将制作的光致抗蚀剂衰减相移掩模
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)
【出 处】
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第七届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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2000年期
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