【摘 要】
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作为类石墨烯二维材料的一种,MoS2纳米片在场效应晶体管、信息存储等领域展现出潜在的应用价值。我们利用预先合成的MoS2-DDATRAFT试剂首次原位合成了聚乙烯咔唑(PVK)共价修
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作为类石墨烯二维材料的一种,MoS2纳米片在场效应晶体管、信息存储等领域展现出潜在的应用价值。我们利用预先合成的MoS2-DDATRAFT试剂首次原位合成了聚乙烯咔唑(PVK)共价修饰的MoS2纳米功能材料(MoS2-PVK)。材料在退火前后均展现出非易失性可擦写存储性能,ON/OFF电流开关比和启动电压分别从退火前的4x102、-1.54V改变为退火后的3x104、-1.31V。当薄膜的厚度从80nm分别增加到100nm和120nm时,器件的ON/OFF电流开关比随着薄膜厚度的增加而增加(7.0x103(80nm)→3.0x104(100nm)→6.0x104(120nm)),而启动电压几乎不变。值得注意的是,在同等条件下,基于MoS2/PVK(重量比1:1)混合物的器件在退火前也表现出可擦写存储性能,但电流开关比仅70.退火后则表现出很不稳定的性能。
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