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可控生长超高空穴迁移率GaSb族纳米线
可控生长超高空穴迁移率GaSb族纳米线
来源 :中国化学会第十届全国无机化学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ccll
【摘 要】
:
由于具有超高的理论空穴迁移率(1000 cmZV-1s-1)和较窄的理论禁带宽度(0.7Z eV),一维锑化镓(GaSb)纳米线在制造小尺寸光电子器件方面具有先天的优势.然而,受限于实验所得的
【作 者】
:
孙嘉敏
杨再兴
【机 构】
:
山东大学微电子学院济南250100
【出 处】
:
中国化学会第十届全国无机化学学术会议
【发表日期】
:
2019年8期
【关键词】
:
GaSb纳米线
可控生长
超高空穴迁移率
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由于具有超高的理论空穴迁移率(1000 cmZV-1s-1)和较窄的理论禁带宽度(0.7Z eV),一维锑化镓(GaSb)纳米线在制造小尺寸光电子器件方面具有先天的优势.然而,受限于实验所得的较低空穴迁移率,基于GaSb纳米线的光电子器件在近几年发展缓慢.
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