掠出射X射线荧光分析方法

来源 :北京同步辐射装置2005年学术年会暨学术委员会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bashi0000

【摘要】

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本文报道了由中国科学院高能物理研究所自行研制的掠出射X射线荧光分析(GEXRF)装置.掠出射X射线荧光分析不仅可以测量薄膜的成分,而且可确定薄膜的厚度,密度和化学成分随深度

【作者】

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徐清魏向军黄宇营何伟

【机构】

：

中国科学院高能物理研究所,北京,100049中国科学院高能物理研究所,北京,100049;兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000

【出处】

：

北京同步辐射装置2005年学术年会暨学术委员会

【发表日期】

：

2005年7期

【关键词】

：

掠出射X射线荧光仪器研制薄膜

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本文报道了由中国科学院高能物理研究所自行研制的掠出射X射线荧光分析(GEXRF)装置.掠出射X射线荧光分析不仅可以测量薄膜的成分,而且可确定薄膜的厚度,密度和化学成分随深度的变化.利用该装置,在X射线发生器和北京同步辐射装置上,对硅基体上的金属薄膜(Ni,Ni/Ti)和砷化镓晶体进行了掠出射X射线荧光分析.所得结果表明,掠出射X射线荧光分析是一种分析薄膜厚度,密度等特性的有力工具.

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