Application of catalytic chemical vapor deposition to the fabrication process of high-efficiency cry

来源 :第十三届全国太阳级硅及光伏发电研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：a1a1b1b1ccddee

【摘要】

：

Cat-CVD Decomposition of gas molecules on a heated catalyzing wire Plasma-damage-less deposition?High-quality passivation layers for c-Si Catalytic impurity dop

【作者】

：

K.Ohdaira Trinh Cham Thi S.Tsuzaki T.Oikawa J.Seto K.Koyama H.Matsumura

【机构】

：

JapanAdvancedInstituteofScienceandTechnology

【出处】

：

第十三届全国太阳级硅及光伏发电研讨会

【发表日期】

：

2017年11期

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Cat-CVD Decomposition of gas molecules on a heated catalyzing wire Plasma-damage-less deposition?High-quality passivation layers for c-Si Catalytic impurity doping(Cat-doping) Catalytic impurity doping

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