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21世纪,我国国家半导体制造整体实力突飞猛进,随着半导体工艺不断的进步,线宽从1um提升到90nm以下,再到大规模量产的28nm和14nm工艺,体现了强大的综合性制造水准.由于纳米制造需要核心的光刻工艺,AMC气态分子污染物对其良率有较大的影响.本文介绍了半导体晶圆制造无尘室FFU化学过滤器的产品结构、过滤原理和在光刻工艺中的对AMC过滤应用,了解化学过滤器的失效,可对生命周期内的化学过滤器具有直观的判定寿命.