正弦电压驱动的大气压氦等离子体射流模拟研究

来源 :大连理工大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fairycx
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
大气压等离子体射流由于具有不受放电间隙尺寸的限制,产生活性物种密度高等独特优势,在生物医学、材料处理、环境工程等领域有着十分广泛的应用前景。大气压射流等离子体源是一个多参数系统,放电装置结构、驱动电压类型、工作气体种类、及传播环境等任何一个条件的变化都会影响射流的行为。尽管目前已经对大气压等离子体射流进行了多方面的研究,但为了满足各种复杂的应用需求,探究不同条件下等离子体射流的性质,优化和控制射流的产生和传播仍然等离子体领域备受关注的研究热点。对于大气压等离子体的射流来说,制约其应用的关键因素是射流长度和产生的活性粒子浓度。研究表明,与其它控制条件比较,激励电压对等离子体射流长度及活性粒子密度具有较大的影响。本文针对环-板电极结构建立二维轴对称流体模型,对不同频率正弦电压驱动、及正弦电压叠加不同极性直流偏置电压产生的大气压氦等离子体射流进行模拟研究,讨论不同驱动电压下大气压等离子体射流的动力学特性和活性粒子的产生和输运机制,为等离子体射流的应用研究提供理论参考,具体研究结果如下:在第三章,详细研究了正弦电压驱动的等离子体射流的产生和传播过程,同时探究了频率对等离子体射流动力性特性的影响。模拟结果显示:正弦电压驱动的等离子体射流,在正负半周期均有放电产生,但有不同的传播特性。正半周期产生的射流(正射流)头部呈现球形,且射流头部电离率最大;负半周期产生的射流(负射流)头部呈现锥形,而且电离率明显低于正射流,电离区域相比正射流分布也较为弥散。正负射流之间存在相互影响,负射流的产生对正射流的传播具有抑制作用。在负射流传播过程中,正射流几乎停止向前传播,同时正射流对负射流的传播也具有阻碍作用。当负射流接近正射流头时,速度出现快速减小,超过正射流头之后,速度再次增加。在射流传播过程中,不同活性粒子的产生和输运情况不同。在当前的模拟条件下,氦相关粒子主要在介质管内产生,且分布不同。He+集中在射流轴附近,而He*粒子几乎充满整个介质管。出管后,He+呈环形分布,He*为柱状分布。氮和氧相关粒子主要在环境气体中产生,并呈明显的中空环形分布,且随着射流的传播,各种粒子的分布通道都有向中心轴收缩的趋势,但收缩速度不同。驱动电压频率不同,射流的动力学特性也不同。频率较低时,射流传播通道在管中更加趋近于轴心,随着频率增加,射流在管中趋于均匀。同时频率越大,电离率相应的也越大,产生的活性粒子密度越高。实验研究表明,当正弦电压叠加一个直流偏置电压后,等离子体射流会表现出不同的行为。在第四章模拟研究了加不同极性偏置电压对等离子体射流行为的影响。模拟结果显示。当幅值为5k V的正弦电压分别叠加1 k V和2 k V的负偏置电压时,与不加偏置电压的射流比较,在正半周期内射流传播速度减小,传播距离缩短,但进入负半周期后,射流传播速度快速升高,且负偏置电压越高,传播速度增加越快,最终射流的长度明显大于不加偏置电压的射流长度,同时,所产生的活性粒子密度也明显提高。当电压幅值为5k V正弦电压叠加2 k V正偏置电压时,与幅值7 k V的正弦电压驱动的射流相比,在正半周期内,尽管他们拥有相同的峰值电压,但加正偏置电压的射流传播距离更长,且具有更高的粒子密度。因此,偏置电压的引入不仅可以增加等离子体射流的长度,同时也提高了活性粒子的产生效率。
其他文献
工业革命以后,由于人类活动加剧,能源需求大大增加,化石燃料的使用量显著增加。因此,大气中二氧化碳排放量的增长速度大大提升,最终导致大气中二氧化碳浓度显著增加,产生了明显的温室效应。介质阻挡放电(Dielectric Barrier Discharge,DBD)等离子体技术能够在注入较低能量时克服热力学势垒,将二氧化碳分解。此外,DBD等离子体技术还具有装置简易、成本低等优点,因而被广泛关注。本文分
挥发性有机污染物来源广泛,有毒而且极易挥发,危害大气环境和人类健康,因此解决挥发性有机污染物引发的环境问题已成为当务之急。等离子体可在室温甚至低温氧化挥发性有机污染物,具有反应速率快、可同时氧化多种污染物的优点,故其应用于有机污染物处理的研究近年来引起广泛关注。迄今为止,虽然对于等离子体中有机污染物氧化已有大量报道,但是现有的报道大都是探索等离子体应用的技术路线,对等离子体中污染物氧化机理的认识非
纳米光学技术的发展和纳米器件制作水平的不断提高,对表面等离激元的研究起到了极大的促进作用,使其在纳米光子学、集成光学器件、生物传感器等多个领域得到飞速发展,并延展开了诸多新的研究方向。目前基于表面等离激元的传感器已臻于成熟,可基于局部折射率改变所引起的变化,间接检测器件表面所吸附的分子,也可利用增强的光学近场,基于不同的光与物质相互作用原理,直接检测分子。目前,针对具备氧化还原特性分子状态进行检测
随着我国对油气和煤矿能源需求的日益增长,安全开采含H2S的油气田逐渐被提上日程。煤炭和石油加工企业为满足工业要求会通过不同的方法收集酸性气体来保障人员安全,减少H2S的排放。考虑到经济和环保的问题,二次利用H2S是当前最好的选择。大气压微波等离子体不需要昂贵的真空设备,且具有较高的放电稳定性和适合气相反应的特征温度,使大气压微波等离子体进行气体改性的研究受到广泛关注。本文研究的是利用大气压微波等离
本文研究具梯度通量限制的珊瑚虫受精Keller-Segel-(Navier-)Stokes模型:nt+u·?n=?n-?·(nF(|?c|2)?c)-nm,ct+u·?c=?c-c+m,mt+u·?m=?m-nm,ut+κ(u·?)u+?P=?u+(n+m)?φ且?·u=0,其中?(?)R2是有界光滑区域,κ∈R,φ∈W2,∞(?),且|F(ξ)|≤KF(1+ξ)-(α/2)(KF>0,α∈R).
为了研究低气压下沿面介质阻挡放电的微观机理,本文主要采用了可调谐二极管吸收光谱(TDLAS)和发射光谱(OES)对Ar等离子体、Ar/N2等离子体和Ar/H2O等离子体进行了诊断。分别利用吸收光谱测量了氩亚稳态的数密度和气体温度,利用发射光谱测量了Ar原子电子激发温度,N2分子和OH自由基的转动温度,因为快速碰撞弛豫,转动温度近似等于气体温度[1]。研究了放电电压、放电频率、气体压强、气体流量等放
射频容性耦合等离子体(Radio Frequency Capacitively Coupled Plasmas,RF CCPs)被广泛地应用在刻蚀和薄膜沉积等半导体集成电路制造工艺中。工业中采用的CCP源大多具有几何非对称结构,射频源通过匹配网络与电极板相连。低气压放电中电极有限几何非对称效应会导致等离子体具有很强的非线性,等离子体电流产生高次谐波,两个鞘层的动力学过程不同,会对电子的加热机制产生
等离子体刻蚀技术与薄膜沉积、光刻等工艺结合,通过精细的图形转移在衬底材料上形成微电子器件的微观结构,是半导体制造业中不可或缺的技术。在等离子体刻蚀技术中,离子在鞘层中的输运过程对刻蚀剖面演化起至关重要的作用。具体来说,到达材料表面的离子能量是关键的物理量,因为它驱动表面反应、决定反应速率、影响聚合物的形成以及刻蚀的选择性。为了满足目前原子/分子级别刻蚀剖面精度的要求,精准地将到达材料表面的离子能量
细胞弹性模量与细胞的分化、稳态、衰老、病变等多种生物学功能密切相关,准确测量细胞的弹性模量具有理论研究和临床应用意义。原子力显微镜(AFM)以其超高的灵敏度以及在生理条件下测试的能力,使其在测量细胞弹性模量方面应用最广泛。球形和锥形原子力显微镜探针是两种常用的测量细胞弹性模量的探针,目前通常使用Hertz公式和Sneddon公式对测得的力-位移曲线进行拟合,以获得细胞的弹性模量。但是由于实际压痕实
追肥是保证果树正常生长发育、改善果实品质的主要手段。探讨分次追肥对桃果实品质的影响,能够为合理追肥提供依据。以桃品种‘霞晖8号’和‘霞脆’为试材,在等量追施氮磷钾复合肥条件下,设置一次追肥、二次追肥、三次追肥3个处理,采收成熟期果实,测定品质指标。结果表明:不同追肥次数对2个桃品种的单果重无显著影响。二次追肥条件下, 2个桃品种的去皮硬度、可溶性固形物含量均显著高于一次追肥;山梨醇和总糖含量显著升