含氢类金刚石薄膜相关论文
采用阳极层流型离子源复合磁控溅射技术制备了W和Al元素共掺杂的含氢类金刚石((W,Al)-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、场发射扫描电子......
含氢类金刚石薄膜(a-C∶H)在惰性气体环境下能够表现出非常优异的超滑性能,而其超滑机理现今仍未有定论。本文利用钢球和镀有a-C∶......
利用中频非平衡磁控溅射技术,以氩气和甲烷混合气体为工作气体,在载玻片和单晶硅片上沉积含氢的类金刚石薄膜。改变加载在基体上的......
为研究含氢类金刚石(a-C:H)薄膜的制备及性能,充入含—CH3原子团的CH4气体,在不同CH4/Ar流量比条件下于N型硅基底上沉积a-C:H薄膜,并借......
利用非平衡磁控溅射技术制备类金刚石薄膜时,在放电气体中引入含-CH3原子团的甲烷气体,即采用反应磁控溅射技术得到含氢DLC薄膜,实......