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[期刊论文] 作者:郑衍畅,胡华奎,邱克强,王海,徐向东,付绍军, 来源:光学精密工程 年份:2019
全息光刻-单晶硅各向异性湿法刻蚀是制作大高宽比硅光栅的一种重要方法 ,而如何增大光刻胶光栅的占宽比,以提高制作工艺宽容度和光栅质量是急需解决的问题。本文提出了一种热...
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