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[期刊论文] 作者：郑其经,,
来源：东南大学学报 年份：1992
在ZMRSOI多层复合材料中观察到一种小平面缺陷,这种缺陷是硅衬底表面在ZMR处理过程中某些局部范围内发生熔化和再结晶的结果。本文介绍了该缺陷的特征,分析了热场的温度偏差...
[期刊论文] 作者：郑其经,,
来源：Journal of Southeast University(English Edition) 年份：1993
A faceted defect has been found in some ZMR SOI multilayer compositematerials as a result of melting and recrystallization of silicon substrate at some isolat-e...
[期刊论文] 作者：郑其经,
来源：电子器件 年份：1978
近十年来,由于硅栅工艺在MOS集成电路中的应用逐渐普遍,对于介质上淀积多晶硅荡膜的工艺,以及多晶硅淀积层性质的研究己经受到了重视。In the past ten years, due to the...
[期刊论文] 作者：郑其经,
来源：电子器件 年份：1978
CMOS集成电路具有功耗低,噪声容限高,单电源工作,工作电压范围宽的优点。因些自六十年代问世以来,发展迅速,目前已广泛地应用于各类基本电路,手表,存贮器和微处理机。但是由...
[期刊论文] 作者：郑其经,
来源：电子器件 年份：1980
欢迎诸位来加利福尼亚出席1980年国际固体电路会议。 本着国际固体电路会议体现固体电路最新的世界性进展的传统。ISSCC80也将有开创设计工作新阶段的进步。 随着工艺技术...
[期刊论文] 作者：李玉,郑其经,,
来源：材料科学与工程 年份：1992
自七十年代中期以来,对二氧化锡薄膜及其应用的研究日益受到重视。本文综合介绍了二氧化锡薄膜的制备工艺,纯净和掺杂二氧化锡晶体薄膜的基本性质和在各种领域中的应用。...
[会议论文] 作者：肖佐楠,郑其经,
来源：第四届全国固体薄膜学术会议 年份：1994
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[会议论文] 作者：肖佐楠,郑其经,
来源：第四届全国固体薄膜学术会议 年份：1994
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[期刊论文] 作者：肖佐楠,徐坤,郑其经,
来源：医疗卫生装备 年份：1994
本煎煮器以普通紫砂锅为容器,其加热器是用热解喷涂方法在砂锅底部形成一层几干埃厚的SnO_2电热薄膜,再辅以温控电路和时控电路构成。它具有节能,自动,价廉及防止药液溢出等...
[期刊论文] 作者：章彬,黄庆安,郑其经,秦明,
来源：电子器件 年份：1998
本文论述了金刚石薄膜的优点，比较了化学淀积金刚石薄膜的常用方法的优缺点，主要介绍了电容耦合射频化学气相淀积金刚石薄膜的原理和近期国际对典型电容耦合气相淀积设备的改进......
[期刊论文] 作者：哈里·丁·博尔,HarryJ.Boll,郑其经,
来源：电子器件 年份：1980
廉价随机存取存贮器的巨大的扩展的市场不断刺激电路设计的革新,而这种革新是和各种各样的集成电路工艺相关的。这方面的竞争希望在产品畅销的成本和性能方面取得重要的收益...
[期刊论文] 作者：庄庆德,郑其经,陈德英,吴振婵,,
来源：南京工学院学报 年份：1982
在选择复盖SiO_2或Si_■N_4的硅衬底上,进行了单晶硅和多晶硅的同步淀积实验。对于SiO_2-Si衬底,在相当广泛的实验条件下,观察到在SiO_2-Si边界附近存在着异常核化现象。即边...
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