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低介电常数(low-k)介质在ULSI中的应用前景
低介电常数(low-k)介质在ULSI中的应用前景
来源 :电子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hanbing5
【摘 要】
:
本文讨论了ULSI的发展对低介电常数(low-k)介质的需求,介绍了几种有实用价值的low-k介质的研究和发展现况,最后评述了low-k介质在ULSI中应用的前景.
【作 者】
:
阮刚
肖夏
朱兆旻
【机 构】
:
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室,开姆尼茨技术大学微技术中心
【出 处】
:
电子学报
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
极大规模集成电路
低介电常数材料
无机介质
有机聚合物介质
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本文讨论了ULSI的发展对低介电常数(low-k)介质的需求,介绍了几种有实用价值的low-k介质的研究和发展现况,最后评述了low-k介质在ULSI中应用的前景.
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