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由于氦在当前托卡马克放电实验和将来D-T聚变反应堆中的特殊作用,通常将氦和其它杂质分开来研究。首先,几乎现有的托卡马克装置都采用氦辉光放电清洗(He-GDC)作为常规壁处理技术。这个技术能有效地清除壁材料表面的氧和排空吸附在壁/孔栏中的氢。He-GDC后氦作为剩余气体留在真空室将继续影响等离子体放电。它不仅直接贡献电子,而且引起壁中的氢解吸,导致增强的壁加料,在HL-1装置的喷氦实验表明,电子密度衰减时间常数τp=τp(1-R)是喷氢的3倍(式中,τp是粒子约束时间,R是氢再循环系数);对于同样的密度,送