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期刊论文
退火过程中自组织生长Ge量子点的变化
退火过程中自组织生长Ge量子点的变化
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fossi
【摘 要】
:
在超高真空系统中,用扫描隧道显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM)研究了自组织生长的Ge量子点经不同温度退火后的变化.实验发现,当退火温度为630℃时,出现了许多新的量子点.与原
【作 者】
:
胡冬枝
杨建树
蔡群
张翔九
胡际璜
蒋最敏
【机 构】
:
复旦大学应用表面物理国家重点实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
量子点
硅基材料
形貌评价
AFM
quantum dots
Si-based materials
evolution of morphology
atomic
【基金项目】
:
国家自然科学基金;
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在超高真空系统中,用扫描隧道显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM)研究了自组织生长的Ge量子点经不同温度退火后的变化.实验发现,当退火温度为630℃时,出现了许多新的量子点.与原来的在分子束外延过程中形成的无失配位错的量子点相比,新形成的量子点被认为是存在位错的岛.
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