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一、主要技术内容rn该成果利用等离子体的激发作用把传统的化学气相沉积(CVD)温度由1000℃左右降到550℃左右.这就使等离子体化学气相沉积(PCVD)兼有CVD的良好绕镀性和物理气相沉积(PVD)的低温镀膜优点.
等离子体化学气相沉积硬膜技术工业化研究
【摘 要】
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一、主要技术内容rn该成果利用等离子体的激发作用把传统的化学气相沉积(CVD)温度由1000℃左右降到550℃左右.这就使等离子体化学气相沉积(PCVD)兼有CVD的良好绕镀性和物理气
【出 处】
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中国科技成果
【发表日期】
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1999年11期
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