VO2-xNy薄膜的主要制备工艺参数与相变温度系数

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选用V2O5为前驱物,通过在玻璃片上镀膜,利用高纯氢和高纯氮作为气源,采用微波等离子体增强法,在低温条件下合成了具有优良热致相变特性的氮杂二氧化钒(VO2-x,Ny)薄膜。通过正交试验设计对制备VO2薄膜过程中的主要影响因素(反应时间、反应压力、反应功率和N2/H2流量比)进行了分析研究。试验结果表明,VO2薄膜的最终的相变温度明显受到反应时间、反应压力、反应功率和N2/H2流量比的影响。其中以反应时间影响作用最为显著。经分析得到使VO2薄膜具有最低相变温度的优化工艺为:反应时间为7min,反应压力为1.
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