Alq3厚度以及沉积速率对OLED性能的影响

来源 :液晶与显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户：leilei2740

【摘要】

：

以ITO为透明电极,NPB为空穴传输层,Alq3为发光层,制备出ITO/NPB/Alq3/LiF/Al结构的有机电致发光显示器.通过比较Alq3发光层厚度以及沉积速率对OLED的亮度、发光效率的影响,确

【作者】

：

牟强张麦丽张方辉

【机构】

：

电子科技大学

【出处】

：

液晶与显示

【发表日期】

：

2005年6期

【关键词】

：

OLED ALQ3 厚度沉积速率 OLED Alq3 thickness deposit speed

【基金项目】

：

中国科学院资助项目，陕西省教育厅资助项目

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

以ITO为透明电极,NPB为空穴传输层,Alq3为发光层,制备出ITO/NPB/Alq3/LiF/Al结构的有机电致发光显示器.通过比较Alq3发光层厚度以及沉积速率对OLED的亮度、发光效率的影响,确定了Alq3层的厚度为65 nm,沉积速率为0.3 nm/s,得到起亮电压为3.01 V、发光亮度为12 800 cd/m2、发光效率达到4.421 cd/A的器件,并对其影响因素进行了分析.

其他文献

白光LED荧光粉

最近，东芝公司研究开发了一种新的类似于太阳光的LED荧光粉．在蓝光LED照射下荧光粉发光的颜色有蓝绿色、黄绿色、橙色等．这种新的荧光粉与蓝光照射下发红光的荧光粉混合得到类似

期刊

白光LED荧光粉蓝光LED研究开发东芝公司太阳光光照射蓝绿色黄绿色

用金属诱导-准分子激光晶化法制备多晶硅薄膜

提出了一种新的晶化方法--金属诱导-准分子激光晶化法(MI-ELA).该方法在制备多晶硅(p-Si)薄膜中包括两个步骤:第一步是用镍金属诱导方法(MIC)通过热退火形成NiSi2;第二步是再

期刊

多晶硅薄膜金属诱导-准分子激光晶化NiSi2polycrystalline silicon thin films metal inducedexcime

一种便携型彩色液晶电视的设计与制作

在分析研究液晶电视的调谐器、中频放大电路、音视频解码电路、液晶行列驱动电路、液晶屏和电源等部分的基础上，对其核心部分液晶显示器升压电路、调谐电压电路设计方案进行优

期刊

液晶电视TFT液晶屏背光源视频解码驱动电路LCD TV set TFT LCD screen background light source v

热丝对微波ECRCVD方法制备的a—Si：H薄膜氢含量的影响

采用微波ECR CVD系统制备了a-Si:H薄膜,对比有无热丝辅助情况下薄膜的生长情况,并通过红外光谱测试进行氢含量分析.a-Si:H薄膜中氢的引入对薄膜的光学、电学性能有着极大的影

期刊

氢化非晶硅微波ECRCVD沉积速率氢含量a-Si∶H MWECR CVD deposition rate hydrogen content

数码像机显示驱动电路的研究与设计

根据数码像机的工作原理和显示驱动电路的结构。应用硬件设计出数码像机显示驱动电路。实现数据驱动和图像的清晰显示，达到数码像机的技术要求。

期刊

数码像机显示驱动电路电路设计视频处理时序控制源驱动栅驱动解调digital cameradisplay driving circuitdem

Alq3厚度以及沉积速率对OLED性能的影响

其他学术论文