铜表面上希夫碱自组装膜的电化学性能研究

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该论文的研究目的在于用自组装技术制备对铜具有良好缓蚀作用的功能有序膜,并研究自组装膜形成机理以及影响自组膜的质量和性能的因素,为选择合适的自组装膜体系、组装条件以及成膜分子的设计和合成提供理论依据.1、研究体系的选择;该论文利用过渡金属与含有孤对电子的希夫碱类缓蚀剂分子之间配位作用,在金属铜表面组装功能有序分子膜.2、希夫碱在铜表面的自组装膜的制备及其表征;3、希夫碱自组装膜性质及其影响因素;4、希夫碱自组状膜的量子化学研究.
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