近年来,光学薄膜的应用领域不断扩大,人们对光学薄膜性能的要求也在不断的提高。光学薄膜是现代光学仪器的重要组成部分,对光学仪器的质量起着重要作用。应用于液晶显示器背光源的高反射率薄膜是背光源的重要部件,它的反射率的高低会直接影响到显示效果的好坏。不仅如此,高反射率薄膜还可用于激光谐振腔、光反射和转折部件和光衰减器等光通信器件,其反射率的提高对激光器件的输出功率及量子效率等参数的提高有重要的影响。 本文在系统地学习和掌握光学薄膜理论基础上,对金属-介质高反膜系和多层介质膜的常规λ/4膜系设计方法进行了阐述。采用光学薄膜理论和计算机辅助设计高反射率薄膜以及实验镀制是本论文研究的重点。通过对高反膜系的设计和实验镀制工艺的研究,为高反膜的实际镀制和应用提供了理论支持和实际探索。本文的主要研究内容如下： 1)简单介绍了高反射率薄膜的发展现状,包括国内外研究现状以及研究进展,特别是在薄膜镀制的材料和工艺的选择上的现状和发展趋势。 2)通过薄膜光学原理的理论分析,推导出金属高反膜的最佳反射率公式,以及全介质薄膜的反射率公式,为薄膜反射率的优化奠定了坚实的基础。 3)选择合适的膜材,运用计算机辅助设计薄膜的膜系结构,使膜系的反射率在理论计算的基础上,得到进一步优化,达到我们设计的要求。 4)在确定膜材的前提下,选择电子束蒸镀法,运用石英晶振法控制膜厚。通过实验找到合适的工艺条件和参数,完成样品的镀制。 5)根据样品参数的检测结果,分析样品的实际反射率与理论设计值的差异,并进一步分析实验中各种因素的影响,找到最优的工艺条件和参数值。 本文在薄膜光学的理论基础之上,理论与实践相结合,通过实验证明高反膜的镀制工艺和参数选择的正确性,为高反膜的实际应用提供理论和实验支持。