分辨率增强技术在65nm及以下光刻工艺的广泛使用,造成了光罩数据文件容量惊人的增长和光罩刻制造性的困难。本研究工作以新的数据格式OASIS和光罩数据制备流程为研究对象,以改善存储空间瓶颈、减少重复操作和光罩的可制造性为目标,试图建立以新兴的数据格式“OASIS”为基础的光罩数据制备流程,以满足65nm以下新型工艺对光罩数据处理的需求。通过GDSII与OASIS数据结构和文件存储空间的比较实验,证明了OASIS比GDSII优越的原因;通过基于GDSII与基于OASIS的数据格式转换的比较实验,证明了基于OASIS的数据处理是正确的和可以进行实际操作的;完成了OASIS数据格式在OPC处理方面的应用,通过将OPC处理和图形分解两个分立的步骤整合成一个步骤,减少了中间文件,突破了系统存储空间上的瓶颈,同时提高了数据处理的效率;完成了OASIS数据格式在MRC方面的应用,通过基于OASIS的MRC检查,在光罩检验前,向光罩检验员提供MRC结果报告,让检验员根据光罩版图的特点选择检验机台和检验模式,提高了光罩检验机台的使用效率;综合OASIS在数据处理方面的新的研究成果,建立了基于OASIS的光罩数据处理流程。