贵州丹寨汞矿矿山环境污染物及其生物毒性研究

来源 :贵州大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luo6411465
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
贵州省矿产资源丰富,资源的开采产生大量的尾矿废渣和废矿石,这些废渣的风化氧化和雨水淋溶对矿山周围的水、土及生态环境造成了不同程度的危害。矿山环境问题受到越来越多的专家和学者们的关注。  贵州丹寨汞矿是我国80年代较典型的汞矿生产基地之一,矿山于1985年闭坑停产,矿区累计堆存含汞固体废弃物(炼汞渣、尾矿废渣和采矿废石等)约186万吨。矿区居民只采用简单的填埋、覆盖等方式,就地对矿山占用的农田、矿山废弃地实施耕种,土地利用未经妥善处理污染土壤的矿区农业恢复,这将会对矿区人类和生态环境造成不可预料的后果。矿山开采、选矿、提炼等相关活动引起的环境污染和生态破坏已经成为一个全球性的环境问题。  本文利用理化分析、浸出毒性实验、生物毒性实验和重金属形态分析等方法相结合研究了贵州丹寨汞矿区水、土、渣的环境污染物及其生物毒性大小。研究中,利用综合污染指数法和生物毒性实验对地表水的污染物和污染程度进行了分析;考虑到贵州是一个酸雨比较严重的地区,模拟贵州地区大气降雨的不同pH值对渣、土的浸出液利用隆线溞作了生物毒性大小分析;同时为了了解渣、土对环境污染的潜在的威胁性大小,利用Tessier五步连续提取法对渣、土作了重金属形态分析。上述研究为汞矿区的生态修复、环境保护与综合治理提供科学依据,为矿山环境演变与生态安全评价及预警方法的基础研究提供帮助,研究的主要结论如下:  (1)矿区地表水体均呈碱性,其中以西山矿渣渗水的pH值最高,pH=11.57,呈强碱性,从重金属As、Cd、Pb、Cr、Cu、Fe、Mn、Zn、Hg的含量来看,其中Cd、Hg含量均超出《地表水环境质量标准》(GB3838-2002)Ⅲ类水体基本项目标准限值,水样中的Hg含量最高超标约80倍,最低超标约30倍,Cd含量平均超标约3.6倍,综合污染指数法评价指出,汞矿区地表水体均呈现重度污染(Pn>3),是以Cd、Hg为主的重金属污染;水样的急性生物毒性试验表明,除西山矿渣渗水的生物毒性有显现外,其它水体对隆线溞的生物毒性都很小,试验计算得出西山矿渣渗水在24h、48h、72h、96h对隆线溞的半致死量LC50分别为西山矿渣渗水的10.64%、8.78%、8%、7.35%。  (2)矿区废渣和土壤中均含有第一类污染物Hg、As、Cd和Cr,土壤中As、Cd、Hg的含量均超出了土壤环境质量二级标准值,其中土壤中As含量超出了土壤环境质量二级标准值约8倍,内梅罗综合污染指数(Pnemerow)评价反映土壤重金属污染等级为重度污染,其内梅罗综合污染指数为37.5,远远高于重度污染指数的评价标准值,土壤重金属污染严重,对单个重金属而言,As、Hg均属重度污染,Cd属轻度污染;浸提液的生物毒性均较小,西山矿渣、炉渣灰、中间金渣和土壤(浸提剂pH=4.5)的浸提液24h的半致死量LC50分别为80.69%、75.38%、74.82%、88.50%,其余样品的浸提液生物毒性均未显现。  (3)重金属的形态分析表明:重金属元素Pb在深层土壤、尾矿废渣、西山矿渣和炉渣灰中主要以可交换态和铁锰氧化结合态存在,Zn、Mn主要以铁锰氧化结合态,有机态和残渣态存在,Cu在样品检测中含量较低,炉渣灰和土壤中Cu的存在形态主要为有机态和残渣态;Pb的可交换态所占的平均比例最高,平均为44.7%,Pb的生物有效性最高,其迁移能力和生态污染风险最高,应引起足够的重视。
其他文献
生态工业作为一种工业模式,是通过仿照自然界生态过程物质循环的方式来规划工业生产系统,一个生产过程的废物可以作为另一过程的原料加以利用。其追求的是系统内各生产过程从
微弧氧化是目前被认为对纯镁表面处理较好的方法,为了较好地控制其成膜结构和工艺,需要对其成膜过程进行系统分析。本文在锆盐体系电解液中,通过改变电压和时间,研究了微弧氧
膜曝气生物反应器(Membrane aeration bio-reactor,MABR)是将膜技术与生物反应器有机结合的废水处理新技术。膜组件同时起到生物膜载体和无泡曝气的双重作用,使氧气和营养物质
地下热水作为新型能源之一的开发利用,越来越受到人们关注,它以低成本、可持续利用和环保而具有其他能源不可比拟的独特优点。地质勘查表明,贵州地热为水热型资源,储量为较丰富,一
Ti-Al-N和W-Ti-N金属间化合物均是典型的硬质薄膜,且具有很好的抗氧化性、良好的耐磨性,因而受到广泛的关注。磁控溅射制备Ti-Al-N和W-Ti-N薄膜薄膜过程中,通过改变基体位置可以方便地控制薄膜的化学成分,使得研究过程大为简化,且有效降低成本。本实验中使用纯Ti和纯Al双靶以及纯Ti和纯W双靶磁控共溅射,同一溅射过程薄膜厚度相同而不考虑情况下,通过改变基片相对于靶材的位置,在不锈钢基体