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对平面光学元件面形精度的检测,目前主要采用光干涉相对测量法。当待测平面光学元件面形精度达到与干涉仪参考平面镜面形精度相当时,相对测量法引入的参考镜面形误差已无法忽视,使得测量结果与待测元件真实面形存在一定的偏差,制约着光学元件高精度检测与加工技术的发展。为了解决上述问题,并完成对干涉仪系统误差的标定,研究了大口径平面绝对测量技术,该方法对测量结果中参考平面镜与待测元件的偏差函数进行解耦计算,得到待测元件的绝对面形信息,消除参考平面镜误差的影响。第一,改进了 N位旋转法,使其适用于大口径光学元件绝对测